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涂层源及其生产方法技术
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文档序号:8349352
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提供一种用于物理气相沉积的涂层源1,所述涂层源具有在粉末冶金生产过程中由至少一种粉状起始材料制成的至少一个组件2;7以及嵌入在所述组件中的至少一个铁磁区域5a、5b、6。所述至少一个铁磁区域5a、5b、6是在所述粉末冶金生产过程中被引入到所...
该专利属于攀时欧洲公司所有,仅供学习研究参考,未经过攀时欧洲公司授权不得商用。
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