温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种电感结构,包括片上电感以及位于所述片上电感下方的屏蔽层,所述屏蔽层包括多屏蔽单元,所述屏蔽单元与所述片上电感所产生的涡电流方向正交,所述屏蔽单元由MOS晶体管或金属线或多晶硅组成,且所述多个屏蔽单元中至少一个由MOS晶体管组...该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种电感结构,包括片上电感以及位于所述片上电感下方的屏蔽层,所述屏蔽层包括多屏蔽单元,所述屏蔽单元与所述片上电感所产生的涡电流方向正交,所述屏蔽单元由MOS晶体管或金属线或多晶硅组成,且所述多个屏蔽单元中至少一个由MOS晶体管组...