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本发明涉及一种低压热壁密集装片原子层淀积设备和工艺，它包括一个反应组合气体交替脉冲气源、一个低压反应炉管、一个加热炉组、一个垂直于气流密集装片组和一个衬底片支架。该低压密集装片原子层淀积设备和工艺利用低压气体的涡流和原子层淀积的自限制生长，...
该专利属于复旦大学所有，仅供学习研究参考，未经过复旦大学授权不得商用。

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