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本实用新型公开了一种离子溅射镀膜装置，包括真空镀膜室及位于所述真空镀膜室一侧的用于发射溅射离子的等离子发射装置，所述真空镀膜室的内空间容置有的位于真空镀膜室顶部的基板、位于真空镀膜室底部的托盘、位于所述托盘上的靶材及位于托盘一侧的辅助离子发...
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