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本发明属于光学仪器及配件技术领域，尤其是涉及一种光学平面基片的制作方法；其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：选取原材料、预成型、仿形、研磨、抛光、清洗、检验。本发明采用物理与化学结合的方式制作光学平面基片，工序大部分采用机器进行，人工参与...
该专利属于蒋菊生所有，仅供学习研究参考，未经过蒋菊生授权不得商用。

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