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一种连续式溅镀设备，以连续方式在一个基板上沉积一个薄膜单元，并包含：数个溅镀装置，每个溅镀装置都包括一个溅镀单元，以及一个电源供应系统，所述溅镀装置的溅镀单元相并接，且每个溅镀单元都具有一个腔体，以及一个安装在该腔体的一个腔室内并可与该基板...
该专利属于北儒精密股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北儒精密股份有限公司授权不得商用。

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