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附有薄膜的晶片的膜厚分布测定方法技术
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文档序号:8304145
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本发明是一种附有薄膜的晶片的评价方法,其计算在基板的表面上具有薄膜的附有薄膜的晶片的前述薄膜的膜厚分布,其特征在于,通过向前述附有薄膜的晶片表面的部分区域上照射单波长λ的光,并检测前述区域的反射光,测定将前述区域分割为多个的每个像素的反射光...
该专利属于信越半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过信越半导体股份有限公司授权不得商用。
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