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本发明公开了一种用于浅槽隔离的化学机械抛光液。该抛光液至少含有含有一种二氧化铈的磨料，一种有机膦酸，一种pH调节剂，和载体水，具有较高的高密度等离子体二氧化硅和较低的氮化硅的去除速率，抛光后的表面平坦光洁，稳定性好，适用于浅槽隔离的化学机械...
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