下载SnO2纳米管阵列的低温化学气相沉积制备方法的技术资料

文档序号:8296339

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本发明涉及一种SnO2纳米管阵列的低温化学气相沉积制备方法,是以易挥发的SnCl2·2H2O作锡源,在560~610℃的马弗炉内反应,生成大面积的SnO2纳米管阵列,所制备的SnO2纳米管阵列可直接生长在FTO导电玻璃上,其工艺简单、反应条...
该专利属于陕西师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过陕西师范大学授权不得商用。

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