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本发明公开了一种聚合物纳米通道的制作方法，包括以下步骤：（1）在清洗后的衬底上旋转涂覆抗蚀剂，获得抗蚀剂层；（2）烘烤除去抗蚀剂溶剂；（3）通过曝光和显影，获得成对的纳米线条结构；（4）用清洗液清洗纳米线条结构，待清洗液在空气中完全挥发后，...该专利属于中国电子科技集团公司第三十八研究所;合肥公共安全技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第三十八研究所;合肥公共安全技术研究院授权不得商用。