一种聚合物纳米通道的制作方法技术

技术编号:8296081 阅读:184 留言:0更新日期:2013-02-06 20:09
本发明专利技术公开了一种聚合物纳米通道的制作方法,包括以下步骤:(1)在清洗后的衬底上旋转涂覆抗蚀剂,获得抗蚀剂层;(2)烘烤除去抗蚀剂溶剂;(3)通过曝光和显影,获得成对的纳米线条结构;(4)用清洗液清洗纳米线条结构,待清洗液在空气中完全挥发后,纳米通道制作完成。本发明专利技术利用液体表面张力进行通道密封,无需现有技术的键合工艺,从而不会出现流体在通道中的堵塞等现象,与电子束光刻技术相比,降低了加工成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种聚合物纳米通道的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在清洗后的衬底上旋转涂覆抗蚀剂,获得抗蚀剂层;(2)烘烤除去抗蚀剂溶剂;(3)通过曝光和显影,获得成对的纳米线条结构;(4)用清洗液清洗纳米线条结构,待清洗液在空气中完全挥发后,纳米通道制作完成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:周杰郭进冯俊波滕婕王俊
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第三十八研究所合肥公共安全技术研究院
类型:发明
国别省市:

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