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本实用新型涉及单晶、多晶硅片生产用退火炉，特别涉及一种提高硅片电性能的退火炉网带，包括网带本体，网带本体的上表面设有等间隔的凸起，相邻两个凸起之间的间隔为2cm～8cm，凸起凸出网带本体的高度大致相同，凸起凸出网带本体的高度为0.5cm～1...
该专利属于常州华盛恒能光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州华盛恒能光电有限公司授权不得商用。

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