下载物理气相沉积设备的技术资料

文档序号:8283539

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本实用新型提出物理气相沉积设备包括:添加一种前端固定带小孔圆形净化盘的快闪手臂,并通过从物理气相沉积工艺腔外接入的一净化气体管路向圆形净化盘的小孔通气,对电子卡盘表面进行气体吹拂,从而达到去除颗粒的效果,进而增加电子卡盘对半导体晶片吸力的稳...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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