温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型的目的在于公开一种背面对准光刻误差的校验装置，它包括硅基板，硅基板的表面刻制有一校准图形区域，在所述校准图形区域的表面沉积一钝化层，所述硅基板的背面刻蚀有一深槽图形区域，所述深槽图形区域的底部与所述钝化层的底部相平齐；与现有技术相...
该专利属于慧石（上海）测控科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过慧石（上海）测控科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。