下载一种晶体硅太阳能电池三层氮化硅减反射膜及其制备方法的技术资料

文档序号:8272489

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本发明公开一种晶体硅太阳能电池三层氮化硅减反射膜,其特征在于,它是由三层膜构成,第一层为太阳能电池晶体硅表面的氮化硅薄膜,厚度为8~12nm,折射率为2.3~2.4,第二层氮化硅薄膜的厚度为18~24nm,折射率为2.0~2.1,第三层氮化...
该专利属于东方电气集团(宜兴)迈吉太阳能科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过东方电气集团(宜兴)迈吉太阳能科技有限公司授权不得商用。

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