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本发明公开了一种真空控制系统，应用于半导体器件制造。其中，储能腔室与第一隔离阀并联连接于工作腔室与真空泵之间；第二隔离阀连接于储能腔室与工作腔室之间；第三隔离阀连接于储能腔室与真空泵之间；控制单元与第一隔离阀，第二隔离阀以及第三隔离阀相连，...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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