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本发明公开了一种二值步进式光刻机的二维拼接处理方法，包括有使用空间光调制器(SLM，SpatialLightModulator)作为图形发生器的无掩模光刻系统，通过控制精密平台在每个曝光位置都做“Z”字形的4次交叠曝光，使最终刻蚀后的图形在...
该专利属于天津芯硕精密机械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津芯硕精密机械有限公司授权不得商用。

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