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本发明提供一种利用中频反应磁控溅射在铝合金表面沉积ZrN薄膜的方法，其特征在于：功率为5kW，本底真空6.0×10-3Pa，靶材为270×70×5mm的对称Zr靶，工作气体Ar气和反应气体N2气的纯度99.99%，溅射气压3.0×10-1P...
该专利属于河北农业大学所有，仅供学习研究参考，未经过河北农业大学授权不得商用。

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