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本发明涉及一种用于半导体晶片抛光药液的组合物，包括次氯酸锂、碳酸氢盐和硅溶胶。本发明还涉及了一种包括所述组合物的抛光药液以及制备方法。本发明提供的抛光药液可以针对（111）特殊角度的半导体晶片，以达到光滑均匀，没有腐蚀坑、孔洞等缺陷的优异晶...
该专利属于北京通美晶体技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京通美晶体技术有限公司授权不得商用。

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