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本发明公开了一种化学机械抛光液，包含：水、研磨剂、能产生银离子的化合物、冠醚。本发明的抛光液显著增加了抛光液对可见光的稳定性，并可以保持抛光液具有长期稳定的抛光性能。...
该专利属于安集微电子（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子（上海）有限公司授权不得商用。

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