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本发明公开了形成具有至少一个像素（2）的焦平面阵列的方法，焦平面阵列通过下列步骤来制造：形成具有设置在表面上的传感材料（3）的第一晶片，该表面由第一牺牲层覆盖，传感材料是限定至少一个像素的电热材料；为第一牺牲层内的至少一个像素中的每个提供支...
该专利属于森松诺尔技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过森松诺尔技术有限公司授权不得商用。

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