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公开了包括用于将束投影到衬底的目标部分上的光学装置列的光刻设备，该光学装置列具有配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还包括相对于衬底移动光学装置列或其至少一部分的致动器以及在光学装置列的移动部分和衬底的目标部分之间和/或在光学...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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