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沉积物和在硅基底表面上生成沉积物的方法。沉积物包含氧化铝，并且方法包括任何顺序下的交替步骤：a）将作为氧前体的水和臭氧中的一种引入反应空间，b）将作为氧前体的水和臭氧中的另一种引入反应空间，c）将铝前体引入反应空间并随后吹扫反应空间；条件是...
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