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本发明提供一种氮化物半导体装置及其制造方法,本发明的氮化物半导体装置具有氮化物半导体层、设置在氮化物半导体层上的第一绝缘膜、设置在第一绝缘膜上的第二绝缘膜、在氮化物半导体层上相互分开设置的第一主电极及第二主电极、设置在第一主电极及第二主电极...该专利属于联华电子股份有限公司;三垦电气株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司;三垦电气株式会社授权不得商用。
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本发明提供一种氮化物半导体装置及其制造方法,本发明的氮化物半导体装置具有氮化物半导体层、设置在氮化物半导体层上的第一绝缘膜、设置在第一绝缘膜上的第二绝缘膜、在氮化物半导体层上相互分开设置的第一主电极及第二主电极、设置在第一主电极及第二主电极...