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本实用新型提供了一种多晶硅铸锭用坩埚，该坩埚包括本体和形核源层，本体包括底座及由底座向上延伸的侧壁，底座和侧壁共同围成一收容空间，形核源层附着在本体底座朝向收容空间的一面，形核源层选自硅粉涂层、碳化硅粉涂层、石英粉涂层和碳粉涂层中的一种。本...
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