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本实用新型描述了一种在化学气相沉积反应器中使用的喷嘴设备。该喷嘴设备具有喷嘴本体和至少一个控制单元，喷嘴本体具有入口、出口和位于它们之间的流动空间，控制单元包含控制部分和设定部分，其中，控制部分以可运动的方式布置在流动空间内，在流动空间内限...
该专利属于森托塞姆硅技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过森托塞姆硅技术有限公司授权不得商用。

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