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本实用新型公开了一种EMI专用真空溅镀治具，包括上盖和底座，所述底座上设置有与产品配套的定位块；所述上盖包括遮蔽块，所述遮蔽块通过架桥连接，所述架桥连接至所述上盖的主体。该实用新型的底座及上盖分别采用铝合金材质一体成型，并在上盖设置通过架桥...
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