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一种微光刻投射曝光装置的照明系统包含空间光调制器(58)，其改变瞳面(38)中的强度分布。调制器(58)包含反射镜(64)的阵列(62)，反射镜(64)将照到的投射光(34)反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向。棱镜(60)朝向空间光调...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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一种微光刻投射曝光装置的照明系统包含空间光调制器(58)，其改变瞳面(38)中的强度分布。调制器(58)包含反射镜(64)的阵列(62)，反射镜(64)将照到的投射光(34)反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向。棱镜(60)朝向空间光调...