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本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶，包括有靶头和靶材，靶头设有可转动的靶芯，靶芯一端伸出靶头而穿入靶材内中部，并于靶芯之穿入靶材的部分外周分布有磁块；所述靶材的一端通过法兰与靶头轴向衔接在一起，恰使靶材内腔与靶...
该专利属于广东友通工业有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东友通工业有限公司授权不得商用。

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