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提供一种基板保持装置（ES），用于在实施等离子处理的处理室内吸附基板。所述装置在等离子处理过程中也能掌握基板的翘曲，并且，以适当的吸附力吸附基板而不致基板破损或诱发异常放电。其包括：卡盘本体，其具有正负电极（3a、3b）；卡板（2），其具有...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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