温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种蓝宝石图形衬底的制备方法，先制作光刻胶图形，进行氧气等离子体清洗后，再沉积薄膜，然后剥离得到掩膜图形，并通过湿法刻蚀得到蓝宝石图形衬底。本方法可以很好的控制图形的尺寸，保证掩膜图形的质量，有效提高GaN?LED的光提取效率，而...
该专利属于山东华光光电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东华光光电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。