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沟槽式功率半导体元件及其制造方法技术
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文档序号:8191810
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一种沟槽式功率半导体元件,具有一第一导电型的轻掺杂基板、至少二个沟槽、一栅极结构、一第二导电型的阱区、一第一导电型的第一掺杂区、至少二个沟槽底部重掺杂区、一接触窗与一导电结构,其中,沟槽位于所述轻掺杂基板上;并且,这些沟槽中包括至少一个栅极...
该专利属于科轩微电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过科轩微电子股份有限公司授权不得商用。
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