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本发明公开了一种透明电极制作方法、掩膜板以及设备。所述方法包括如下步骤：在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻；透过掩膜板对光阻进行曝光，其中，掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成至少第一区域及第二区域两个区域，第一区域中透明电极所对...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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