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一种刻蚀高深度光波导的制备工艺，包括以下步骤：1）用沉积法，在衬底上制备掺杂的芯层，形成平板光波导；2）用光刻工艺，在步骤1）制取的平板光波导上获得与掩模版图形相反的光刻胶掩模；3）用溅射工艺，在步骤2）获取的样品表面制备金属掩模；4）清洗...
该专利属于东南大学;南京华脉科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东南大学;南京华脉科技有限公司授权不得商用。

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