温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种对基板进行烤焙处理的装置，包括支撑平台、多个支撑针、加热单元及绝热层。所述支撑平台具有一支撑面及一底面。所述多个支撑针设置于所述支撑平台中，所述多个支撑针可移动地伸出于所述支撑面，用于顶起所述基板。所述加热单元用于对所述基板...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。