下载基质辅助激光解析离子源进样装置的技术资料

文档序号:8180459

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本实用新型提出一种基质辅助激光解析离子源进样装置,该装置包括样品托盘;密封腔,密封腔内具有第一真空度;真空腔,真空腔内具有高于第一真空度的第二真空度,真空腔与密封腔相连且通过真空腔的前密封板与密封腔隔开;设在密封腔一侧、用于将样品托盘送入密...
该专利属于江苏天瑞仪器股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江苏天瑞仪器股份有限公司授权不得商用。

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