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本实用新型提供一种适用于等离子体加强化学气相沉积工艺设备的一体化真空腔体，其中的下电极和下部腔体是同一种材料、一体构成的一体化真空下腔体构件。本实用新型提供的适用于等离子体加强化学气相沉积工艺设备的一体化真空腔体，由于下部腔体和下电极为同样...
该专利属于北京普纳森电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京普纳森电子科技有限公司授权不得商用。

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