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一种闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备，主要应用于高离化率的反应磁控溅射镀膜领域。本实用新型包括镀膜室、镀膜室门、工件转架、圆柱磁控靶、充气系统、靶挡板及真空抽气口，镀膜室门通过铰链固定在镀膜室上，在镀膜室的外壁上设有真空抽气口，在镀膜室的下盖...
该专利属于爱发科中北真空（沈阳）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过爱发科中北真空（沈阳）有限公司授权不得商用。

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