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本发明提供一种成膜方法，在包含稀有气体原子及水分子、且所述水分子的含量相对于所述稀有气体原子以分压比计为0.1～10％的气体的氛围下，溅射包含金属氧化物的靶材，在基板上形成薄膜。...
该专利属于出光兴产株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过出光兴产株式会社授权不得商用。

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