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在利用脉冲激光的照射来使硅薄膜进行晶化时，实现均匀的晶化。制造装置包括：激光振荡器，该激光振荡器输出脉冲激光；光学系统，该光学系统将所述脉冲激光导向非晶半导体；以及移动装置，该移动装置使所述非晶半导体进行相对移动以将所述脉冲激光对所述非晶半...
该专利属于株式会社日本制钢所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日本制钢所授权不得商用。

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