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本发明揭示一种形成多个间隔特征的方法，其包括在下伏材料上形成牺牲硬掩膜材料。所述牺牲硬掩膜材料具有至少两个不同组成的层。去除所述牺牲硬掩膜材料的部分以在所述下伏材料上形成掩膜。所述掩膜的个别特征具有至少两个不同组成的层，其中所述个别特征中每...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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