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本发明的目的在于提供对导电性高分子具有优异的蚀刻能力、所得到的图案的精度高的导电性高分子蚀刻用墨液、以及使用前述导电性高分子蚀刻用墨液的导电性高分子的图案化方法。本发明的导电性高分子蚀刻用墨液，其特征在于，其包含导电性高分子用蚀刻剂、增稠剂...
该专利属于鹤见曹达株式会社;东亚合成株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过鹤见曹达株式会社;东亚合成株式会社授权不得商用。

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