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本发明涉及合成和使用无规交联的被取代的聚苯乙烯共聚物作为聚合交联的表面处理剂（PXST)来控制在第一共聚物上沉积的嵌段共聚物的物理特征的取向的方法。所述方法具有许多用途，包括制造用于纳米压印光刻法的模板的半导体工业中的多种应用。...
该专利属于得克萨斯大学体系董事会所有，仅供学习研究参考，未经过得克萨斯大学体系董事会授权不得商用。

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