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本发明公开了一种改善SE刻蚀后方阻均匀性的扩散方法，其方法是将沉积和推进过程均分为两步进行；整个扩散工艺过程中，大氮一直保持通入状态；整体的工艺时间与原技术方案相比保持不变。整个工艺步骤依次为：进舟，升温，稳定，沉积-1，推进-1，沉积-2...
该专利属于浙江鸿禧光伏科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江鸿禧光伏科技股份有限公司授权不得商用。

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