温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种半导体检测系统和回刻深度的测量方法，设置一标准模板，接着对待检对象进行图像采集，获取实际情况下的图像，并与标准模板进行比较，从而判断出回刻后的深度状况，该方法简便易行，有利于在早期发现缺陷，从而能够大大的节省成本，并能够较好...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。