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一种金属栅极和MOS晶体管的形成方法。其中金属栅极的形成方法，包括：提供衬底，在所述衬底表面形成替代栅极结构，所述衬底和替代栅极结构上形成有阻挡层；在阻挡层上形成层间介质层，且所述层间介质层厚度大于替代栅极结构高度；刻蚀层间介质层至露出替代...
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