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本申请公开了一种降低光刻胶图形缺陷的方法，应用于涂胶/显影机，包括：判断所述涂胶/显影机中运行第一光刻胶之前，是否运行过第二光刻胶；统计所述第二光刻胶结束运行后，所述第一光刻胶开始运行前，所述涂胶/显影机中处理过的晶圆数量；根据所统计的处理...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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