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本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置（EX），是经由投影光学系统（PL）和液体（LQ）将图形像投影在衬底（W）上的装置，投影光学系统（PL），具有与液体（LQ）接触的光学部件（G12）以及配置在光学部件（G12和中间掩模（R）之...
该专利属于株式会社尼康所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社尼康授权不得商用。

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