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本发明提供了一种晶体硅制绒前的清洗剂及清洗方法，该清洗剂包括以下组分：0.1wt%~5wt%的氢氧化钠；1wt%~8wt%的过氧化氢；余量为水。本发明将待处理的晶体硅置于上述清洗剂中，依次进行第一超声处理和第二超声处理，完成对晶体硅的清洗。...
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