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可用于制作光子晶体掩膜层的多光束曝光系统技术方案
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下载可用于制作光子晶体掩膜层的多光束曝光系统的技术资料
文档序号:8148634
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本实用新型提供了一种可用于制作光子晶体掩膜层的多光束曝光系统,包括沿着主光轴方向由前至后依次设置的激光光源、扩束准直系统、分束合光装置以及用于承载晶片的晶片固定装置,激光光源发出的光束经扩束准直系统后进入分束合光装置,分束合光装置将接收到的...
该专利属于杭州士兰明芯科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州士兰明芯科技有限公司授权不得商用。
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